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NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī):如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。樣品表...
NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng):如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情...
NRE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng):自動(dòng)上下載片,帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果??蓪?shí)...
NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機(jī):PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔...
RIE刻蝕機(jī):獨(dú)立式RIE系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2“的視窗,...
NRE-4000(ICPM)ICP等離子刻蝕機(jī):是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實(shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻...
NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī):提供PC控制的PE刻蝕RIE刻蝕一體機(jī),配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁...
NRE-3500型RIE-PE刻蝕機(jī):PC控制的RIE刻蝕PE刻蝕一體機(jī),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝...
NRE-3000型RIE-PE刻蝕機(jī):PC控制的RIE刻蝕PE刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載...
NDR-4000(A)全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕:全自動(dòng)上下載片,帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng),帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪...
NDR-4000(M)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕:是帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng),帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪分子泵,可以使得工藝...
NRE-3500(A)全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī):自動(dòng)上下栽片,PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜,13“頂蓋式圓柱形鋁腔...
NRE-3500(M)反應(yīng)離子刻蝕機(jī):PC控制的反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體...
NRE-4000(M)反應(yīng)離子刻蝕:獨(dú)立式RIE系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口...
NRE-4000(A)全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕:獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝...
NIE-4000(R)RIBE反應(yīng)離子束刻蝕:如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的...
NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統(tǒng):利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,剝離加工各種幾何圖形,通過(guò)大面積離子源產(chǎn)生的離子束,可對(duì)固體材料濺射刻蝕,對(duì)固體器件進(jìn)行...
NIM-4000(A)全自動(dòng)離子銑刻蝕:利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,剝離加工各種幾何圖形,通過(guò)大面積離子源產(chǎn)生的離子束,可對(duì)固體材料濺射刻蝕,對(duì)固體器件進(jìn)...
NIE-4000(A)全自動(dòng)IBE離子束刻蝕:如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的...
NIE-4000(M)IBE離子束刻蝕:如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無(wú)法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過(guò)加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常...
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